真空濺鍍系統 高真空濺鍍系統係一部機器,可以喺最大300毫米嘅基板上面沉積金屬同介電薄膜。呢個系統採用磁控濺鍍源,可以用射頻、直流或者脈衝直流供電,可以單一模式運作,亦都可以共沉積模式運作。模組化結構令安裝、運輸同維護都變得簡單。機殼採用冷軋鋼板製造,經過金屬板成型同噴塗處理,配以鋁合金內部框架同半透明灰色亞加力蓋。控制屏幕設計符合人體工學原則。
項目名稱 : Ultra High Vacuum Sputtering System, 設計師的名字 : Yong Zhang, 客戶姓名 : Huaiyin Institute of Technology & Liaoning Petrochemical University.
這項出色的設計在建築，建築和結構設計競賽中獲得了銅獎。 您肯定應該看到屢獲青銅獎的設計師的設計作品集，以發現許多其他新的，創新的，原始的和有創意的建築，建築和結構設計作品。
