档案馆建筑 「印」係一座位於中國湖北武漢嘅檔案館建築。建築總建築面積為57,487平方米，高度為66米。建築形態結合咗塔樓同裙樓，喺低層釋放出共享空間，而將檔案儲存功能設置喺高層。公共同專業流線互相分離。立面設計靈感源自中國印章，展現咗呢座城市嘅歷史事件時間線。項目採用咗本地材料同低碳技術。多功能廳同大型會議室對公眾開放。
項目名稱 : Seal , 設計師的名字 : Central-South Architectural Institute, 客戶姓名 : Central-South Architectural Design Institute Co.,Ltd. .
這項出色的設計在建築，建築和結構設計競賽中獲得了銅獎。 您肯定應該看到屢獲青銅獎的設計師的設計作品集，以發現許多其他新的，創新的，原始的和有創意的建築，建築和結構設計作品。
